工欲善其事，必先利其器!在芯片領域也是如此，想要制造出芯片，必然要使用到芯片制造工具—光刻機!在光刻機領域，荷蘭ASML則是光刻機領域金字塔最頂端的企業，ASML光刻機全球市場占比高達80%左右，而在高端EUV(極紫外光)領域，ASML則達到了相對壟斷的地位。為此，光刻機的售價一直居高不下，據ASML近期公布的財報顯示，第三季度共交付10臺EUV光刻機，凈銷售額40億歐元。
不難發現，每臺EUV光刻機的造價高達78億人民幣左右，而想要造出來高端光刻機，投資力度可想而知，“造不如買，買不如租”便成了那個年代國產企業的宗旨，為此，國產光刻機的研發也被這樣擱置了，隨著全球IT產業的不斷發展，中國IT產業多方面的實力對美國科技霸主形成了反超，于是美國開始利用“芯片專利”大棒打破國產芯片企業供應鏈，日前余承東表示，華為海思麒麟9000或將成為麒麟的絕版，隨后中芯也遭“斷糧”!
短期來看，雖然芯片自給壓力有所增加，但長期來看，美國對國產芯片的圍堵，卻進一步加強了國產芯片產業鏈的國產化決心!前期，國內下達“鐵令”，要求國產芯片自給率在2025年提升到70%，國產芯片企業也迎來了免稅優惠條件。《資本論》中曾提及“當利潤達到50%，就會有人鋌而走險”，2025年國產芯片70%的自給率，不僅吸引了大量國產芯片企業上市，更吸引了大量海外技術。
眾所周知，日本的經濟非常依賴中國，20%左右的貨物都出口給了中國。日本非常關注中國市場經濟發展的動向。近日，日本經濟網站傳來消息，報道稱“業內人士透漏，為推進極紫外EUV光刻機設備的研發，中國企業已經打算提供資金，聯科國際光刻機巨頭尼康、佳能共同推進光刻機的研發!”在EUV光刻機領域，雖然ASML處于相對壟斷的地位，但日本的尼康和佳能也有EUV光刻機制造的能力。
熟悉光刻機歷史的朋友也許知道，在1984年到2000年左右，全球光刻機市場幾乎被被尼康所壟斷，ASML光刻機在全球的市場份額連10%都不到，但作為日本的大企業，卻犯了一個“毛病”，當時時任臺積電研發副總的林本堅推出了浸潤式光刻機，不僅產能有所提升，成本也更低，但尼康由于在干式光刻機進行了大量投資，并不愿意轉型，更采取各種方式打壓新型光刻技術，最終導致ASML成為光刻機領域的領頭企業，而尼康最終陷入門可羅雀局面!
而如今，日本媒體表示，尼康和佳能也決定對當前的半導體制造工藝進行升級換代，加強每塊芯片增加元器件數的“立體化”技術研究，從而規避ASML的EUV光刻機，發展極紫外光線以外的光刻設備。此外，兩者也表示，希望能與中企合作，突破“立體化”芯片制造技術，重新奪回被ASML蠶食的光刻機市場，而核心產業鏈受限的華為，也將迎來轉機!
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